利用含氢自由基清洁自生氧化物的方法和设备

摘要

一基材清洁设备，其有一远程来源可自远程将含氢气体激发以形成一激发气体，其中离子性含氢物种对含氢自由基物种的比值为第一比率。该设备有一处理室，其具有一基材支撑件、一离子过滤器用以过滤该远程激发的气体以形成一经过滤的激发气体(其中离子性含氢物种对含氢自由基物种的比值为第二比率，该第二比率与该第一比率不同)、以及一气体分配器用以将该经过滤的激发气体引入该室内。

主权项

1.一种用以清洁基材的设备，用于清洁基材上由低k材料所包围的含 金属的表面，所述低k材料具有小于3的k值，所述设备包含： (a)一远程来源，用以自远程激发一含氢气体以形成一远程激发气体，所 述远程激发气体中离子性含氢物种对含氢自由基物种的比值为第一比率；以 及 (b)一处理室，其包含： (i)一基材支撑件； (ii)一离子过滤器，用以过滤所述远程激发气体而形成一经过滤的激 发气体，所述经过滤的激发气体中离子性含氢物种对含氢自由基物种的 比值为第二比率，所述第二比率低于所述第一比率；以及 (iii)一气体分配器，用以将所述经过滤激发气体引入至所述处理室 内。