发明名称 APPARATUS FOR EFFICIENT REMOVAL OF HALOGEN RESIDUES FROM ETCHED SUBSTRATES
摘要 기판으로부터 휘발성 잔류물들을 제거하기 위한 장치가 제공된다. 일 실시예에서, 기판으로부터 할로겐 함유 잔류물들을 제거하기 위한 장치는 내부에 진공을 유지하도록 작동하는데 적합한 챔버 및 상기 챔버 내에 배열되는 기판을 가열하도록 위치되는 히터 모듈을 포함한다. 기판으로부터 할로겐 함유 잔류물들을 제거하기 위한 상기 장치는 또한, A) 챔버 몸체의 릿지에 온도 제어 페데스탈을 지지하는데 적합한, 페데스탈로부터 반경 방향으로 연장하며 챔버 몸체로부터 베이스를 열 절연시키는 돌기를 가지는 온도 제어 페데스탈, B) 아크 형상의 몸체의 내부 에지로부터 내측 반경 방향으로 연장하며 경사진 랜딩을 포함하는 기판 지지 계단부를 각각 갖는, 두 개의 지지 플랜지들을 포함하는, 한 쌍의 기판 홀더들, 또는 C) 돔 형상의 윈도우 중의 적어도 하나를 포함한다.
申请公布号 KR101632031(B1) 申请公布日期 2016.06.21
申请号 KR20117010436 申请日期 2009.10.02
申请人 어플라이드 머티어리얼스, 인코포레이티드 发明人 데이비스, 매튜 에프.;방, 케네쓰 제이.;모레이, 트래비스;카두씨, 제임스 디.
分类号 H01L21/302;H01L21/3065 主分类号 H01L21/302
代理机构 代理人
主权项
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