发明名称 Combined structure of electronica de coupling device and method for etching Plasmacluster
摘要 본 발명은 플라즈마 에칭장치용 일렉트로드의 결합구조 및 결합방법에 관한 것으로, 더욱 자세하게는 플라즈마 에칭장치의 내부에 결합홈(41)이 형성된 플레이트(40)와 결합되는 플라즈마 에칭장치용 일렉트로드의 결합구조에 있어서, 상부에 홈부(11)가 형성된 몸체(10)가 구성되고, 관통되는 체결홈(21)과 상기 홈부(11)에 삽입되어 고정되는 결합부재(20)가 구성되며, 상기 홈부(11)에 끼워지되 상기 결합부재(20)의 외측을 감싸는 고정부재(30)가 구성되고, 상기 플레이트(40)의 결합홈(41)과 일렉트로드의 결합부재(20)를 동일선상에 위치시켜 결합볼트(50)를 이용하여 결합하는 구조로 구성되어, 일렉트로드의 고정부재(30)에 전류가 인가되어 전류를 흐름이 원활하도록 구성됨으로써, 일렉트로드의 본연의 목적을 그대로 유지함과 동시에 플라즈마 밀도의 균일성을 확보 할 수 있으며 무엇보다 층을 이루는 홈부(11)가 형성된 몸체(10)가 결합부재(20)와 플레이트(40)의 체결홈(41)과 결합볼트(50)로 결합되어 고정되기 때문에 몸체(10)의 변위에 전혀 상관없이 일렉트로드의 견고한 고정력을 확보할 수 있음과 더불어 그라파이트재질의 고정부재(30)를 상기 홈부(11)를 맞춰 구성하여 원가를 절감시킬 수가 있으면서도 효율성을 극대화 할 수 있도록 하는 유용한 발명인 것이다.
申请公布号 KR101640488(B1) 申请公布日期 2016.07.25
申请号 KR20140122446 申请日期 2014.09.16
申请人 주식회사 월덱스 发明人 허찬
分类号 H01L21/3065;H05H1/46 主分类号 H01L21/3065
代理机构 代理人
主权项
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