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摘要 The present invention provides an over-coating composition comprising a basic compound for coating a photoresist composition to provide a vertical photoresist pattern.
申请公布号 JP3978571(B2) 申请公布日期 2007.09.19
申请号 JP20000368612 申请日期 2000.12.04
申请人 发明人
分类号 G03F7/11;G03F7/004;G03F7/039;H01L21/027 主分类号 G03F7/11
代理机构 代理人
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