| 发明名称 |
Werkwijze voor het elektrochemisch etsen van een p-type halfgeleidermateriaal, alsmede substraat van althans gedeeltelijk poreus halfgeleidermateriaal. |
| 摘要 |
|
| 申请公布号 |
NL1010234(C1) |
申请公布日期 |
1999.09.03 |
| 申请号 |
NL19981010234 |
申请日期 |
1998.10.02 |
| 申请人 |
STICHTING VOOR DE TECHNISCHE WETENSCHAPPEN |
发明人 |
RINT WILLEM TJERKSTRA |
| 分类号 |
B81C1/00;C25F3/14;H01L21/3063;(IPC1-7):H01L21/306 |
主分类号 |
B81C1/00 |
| 代理机构 |
|
代理人 |
|
| 主权项 |
|
| 地址 |
|
