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发明名称 PLASMA PROCESSING APPARATUS DEPOSITED OXIDE
摘要
申请公布号 KR0132018(Y1) 申请公布日期 1999.02.01
申请号 KR19940035957U 申请日期 1994.12.26
申请人 HYUNDAI ELECTRONICS IND. CO.,LTD 发明人 JUNG, KOO-MON;CHO, JONG-SUK;LEE, DONG-HUN;HWANG, DOO-HWAN;YU, SOON-PO;MOON, HYUN-MYUNG
分类号 H01L21/18;(IPC1-7):H01L21/18 主分类号 H01L21/18
代理机构 代理人
主权项
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