Dry etching method,申请号EP19920108858-传众专利搜索

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法人/股东/高管

发明名称	Dry etching method
摘要
申请公布号	EP0516053(B1)	申请公布日期	1999.02.03
申请号	EP19920108858	申请日期	1992.05.26
申请人	SONY CORPORATION	发明人	KADOMURA, SHINGO
分类号	H01L21/302;H01L21/3065;H01L21/311;H01L21/768;(IPC1-7):H01L21/311;H01L21/28	主分类号	H01L21/302
代理机构		代理人
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