| 主权项 |
1.一种过滤器系统,具有:多数会产生待过滤之气体的设备;一通常过滤器,供各个设备之用;及一配管装置,将各通常过滤器之入口连接至相关之设备;于此一过滤器系统中,对于简化过滤器之更换操作的改良点包括:一备用过滤器;一配管系统,连接备用过滤器之入口至一被选择之设备之配管装置,俾与被选择之设备的通常过滤器并联而处理被选择之设备的排气;该连接于备用过滤器之配管系统包含一阀门,用以将各设备自配管系统及备用过滤器隔绝开;及一阀门,供各通常过滤器之用,此阀门系用以将过滤器入口与连接至排气设备之相关管子予以隔绝,俾使通常过滤器与相关设备隔绝,而容许被隔绝之通常过滤器之更换。2.一种半导体制造设备,包括:多数会产生待过滤之具有毒性或腐蚀性气体的炉管;一通常过滤器,供各个炉管之用;及一配管装置,将各通常过滤器之入口连接至相关之炉管;于此一半导体制造设备中,对于简化过滤器之更换操作之改良点包括:一备用过滤;一配管系统,连接备用过滤器之入口至一被选择之炉管之配管装置,俾与被选择之炉管的通常过滤器并联而处理被选择之炉管的排气;该连接于备用过滤器之配管系统包含一阀门,用以将各炉管自配管系统及备用过滤器隔绝开;及一阀门,供各通常过滤器之用,此阀门系用以将过滤器入口与连接至排气炉管之相关管子予以隔绝,俾使通常过滤器与相关炉管隔绝,而容许被隔绝之通常过滤器之更换。3.如申请专利范围第2项之半导体制造设备,其中,各通常过滤器具有一过滤器更换装置,且备用过滤器亦具有一过滤器更换装置。4.如申请专利范围第2项之半导体制造设备,其中,备用过滤器用之过滤器更换装置系与通常过滤器用之过滤器更换装置实质上相同。5.一种气体过滤器系统,供使用于设有多数炉管之半导体制造工场等处,各炉管具有一供通常使用之气体过滤器及用以更换过滤器之设备;其改良点包括:为供各通常使用之气体过滤器之用,设有一气体入口、一气体出口及配管装置,该配管装置将各过滤器与一相关之炉管相连接,俾将经过滤之气体排出至大气中;为供各通常使用之气体过滤器之用,设有第一阀门装置,用以将配管装置连接至相关之过滤器入口,该阀门使配管装置及相关之炉管得以和大气隔绝,俾能卸下过滤器,而以另一替换之过滤器取代之;且设有一备用过滤器与一过滤器更换装置;及一阀门与一配管系统,用以在供通常使用之气体过滤器被更换时,选择性地将用过滤器与被选择之供通常使用之气体过滤器并联连接。6.如申请专利范围第5项之气体过滤器系统,其中,若未设过滤器即不容许炉管之操作。7.如申请专利范围第6项之气体过滤器系统,其中,备用过滤器之过滤器更换装置系与通常过滤器之过滤器更换装置实质上相同。图式简单说明:第一图本发明之单一之图式为显示一过滤器系统及连接此等过滤器至半导体制造用之炉管的管路。 |
