发明名称 ABRASIVE ARTICLE SUITABLE FOR MODIFYING A SEMICONDUCTOR WAFER
摘要 <p>An abrasive article (100) includes a fixed abrasive element (108), a resilient element (106), a rigid element (104) disposed between the resilient element and the fixed abrasive element, and a plurality of microstructures (110) disposed between the rigid element and the fixed abrasive element.</p>
申请公布号 WO2002062527(A1) 申请公布日期 2002.08.15
申请号 US2001019188 申请日期 2001.06.14
申请人 发明人
分类号 主分类号
代理机构 代理人
主权项
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