| 主权项 |
1.一种中间相小球体之石墨化物,系在X线绕射下的 平均晶格面间隔d002为未满0.337nm,且使用波长514.5nm 之氩雷射光的拉曼光谱中,存在于1350至1370cm-1之领 域的峰値之强度ID,对存在于1570至1630cm-1之领域的 峰値之强度IG之比値ID/IG为超过0.4,且在2以下者。 2.如申请专利范围第1项之中间相小球体之石墨化 物,其中在体积换算之平均粒径在3至50m,而比表 面积在1至20m2/g。 3.如申请专利范围第1项之中间相小球体之石墨化 物,其中在表面埋设有硬度较该中间相小球体之石 墨化物之硬度为高,且平均粒径较该中间相小球体 之石墨化物之平均粒径为小的小微粒。 4.如申请专利范围第3项之中间相小球体之石墨化 物,其中前述微粒系选自氧化矽、氧化铝以及氧化 钛所成群中之至少1种。 5.如申请专利范围第1项之中间相小球体之石墨化 物,其为含于锂离子蓄电池用之负极材料者。 6.如申请专利范围第1项之中间相小球体之石墨化 物,其更为包含有该中间相小球体之石墨化物以外 之石墨,而含于锂离子蓄电池用之负极材料者。 7.如申请专利范围第1项之中间相小球体之石墨化 物,其为更以包含有结晶性较该中间相小球体之石 墨化物为低的碳材料予以被覆之石墨,而含于锂离 子蓄电池用之负极材料者。 8.如申请专利范围第5~7项中任一项之中间相小球 体之石墨化物,其中,负极材料系形成锂离子蓄电 池用之负极者。 9.如申请专利范围第8项之中间相小球体之石墨化 物,其中,该锂离子蓄电池,系具有负极者。 10.一种制造中间相小球体之石墨化物的方法,系对 中间相小球体之石墨化物实施同时施加压缩力及 剪力的处理,而在X线绕射下的平均晶格面间隔d002 为未满0.337nm,且在使用波长514.5nm之氢雷射光之拉 曼光谱中,存在于1350至1370cm-1之领域的峰値之强度 ID,对存在于1570至1630cm-1之领域的峰値之强度IG之 比値ID/IG为超过0.4,且在2以下者。 11.如申请专利范围第10项之制造方法,其中在硬度 较该中间相小球体之石墨化物之硬度为高且平均 粒径较该中间相小球体之平均粒径为小的微粒之 共存下,实施前述处理。 12.如申请专利范围第11项之制造方法,其中微粒系 选自氧化矽、氧化铝以及氧化钛所成群中之至少1 种。 图式简单说明: 第1图:表示为评估石墨化物之特性之用之评估电 池的剖面图。 第2图:为实施同时施加压缩力及剪力的处理之用 之装置之概时说明图。 第3图:为实施同时施加压缩力及剪力的处理之用 之其他装置之概略说明图。 第4图:表示柱实施例及比较例中所得的中间相小 球体之石墨化物之水浸透量(亲水性)的图。 |
