Sputtertarget mit einem Sputtermaterial auf Basis TiO2 sowie Herstellverfahren

摘要

Die Erfindung betrifft ein Sputtertarget mit einem Sputtermaterial auf Basis TiO₂ und besteht darin, dass das Sputtermaterial 15-60 at% Nb₂O₅ aufweist. Es betrifft ferner ein Verfahren zur Herstellung eines Sputtertargets nach einem der Ansprüche 1 bis 4, mit folgenden Schritten: - Mischen von TiO₂- und Nb₂O₅-Pulver in einem flüssigen Schlicker - Spühgranulation dieses Schlickers zu TiO₂:Nb₂O₅-Mischoxidgranulat - Plasmaspritzen dieses Granulates auf einen Sputtertargetgrundkörper.