| 发明名称 | 标记含有至少一种无机基质的材料的方法以及相应的材料 | ||
| 摘要 | 本发明涉及至少一种含有无机基质的材料的标记方法，其特征在于该方法包括至少一个下述步骤，该步骤在于在该材料的生产过程中向其中掺入至少一种基于至少一种发光镧系元素的化合物，其浓度使得这种化合物在UV辐射下在所述材料中可被检测，所述化合物是呈微晶形式的配位聚合物，其通过至少一种发光镧系元素离子与至少一种不饱和有机配体反应而获得。 | ||
| 申请公布号 | CN101589003A | 申请公布日期 | 2009.11.25 |
| 申请号 | CN200780034856.9 | 申请日期 | 2007.09.20 |
| 申请人 | 雷恩国家应用科学学院 | 发明人 | O·古伊洛;C·黛古邦尼;N·科拜勒克 |
| 分类号 | C04B24/40(2006.01)I;C04B28/14(2006.01)I;C04B111/80(2006.01)I;G09F3/02(2006.01)I | 主分类号 | C04B24/40(2006.01)I |
| 代理机构 | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人 | 张力更 |
| 主权项 | 1、至少一种含有无机基质的材料的标记方法，其特征在于该方法包括至少一个下述步骤，该步骤在于在该材料的生产过程中向其中掺入至少一种基于至少一种发光镧系元素的化合物，其浓度使得这种化合物在UV辐射下在所述材料中可被检测，所述化合物是呈微晶形式的配位聚合物，其通过至少一种发光镧系元素离子与至少一种不饱和有机配体反应而获得。 | ||
| 地址 | 法国雷恩 | ||