发明名称 |
METHOD OF CONTROLLING CONCENTRATION OF PLATING SOLUTION AND DRUGGOUT SOLUTION IN ELECTROPLATING LINE |
摘要 |
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申请公布号 |
JPS5328527(A) |
申请公布日期 |
1978.03.16 |
申请号 |
JP19760102710 |
申请日期 |
1976.08.30 |
申请人 |
NIPPON KOKAN KK |
发明人 |
KAGECHIKA HIROSHI;YAMAGISHI HIDEHISA;TANAKA MIZUO |
分类号 |
C25D21/00;C02F1/461;C25D21/14 |
主分类号 |
C25D21/00 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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