发明名称 气液接触装置
摘要 本发明提供一种气液接触装置,其可使设备更为精简并降低成本,同时可获致高的气液接触效率。在本发明之装置中,将氧化槽(2)装设在吸收塔(1)之附近,并将吸收流体(3)贮存于此氧化槽(2)中。将吸收流体(3)之液位H定成高于喷嘴(7)之位置,因而使吸收流体自喷嘴(7)向上喷出。由废气入口段(8)将废气引入至吸收塔(1)中,并使其在高速度下向上流动,以致将喷出流之最高峰提升至高于液位H。吸收流体(3)被装设在高于液位H处之捕集装置(11)所捕集,并经由循环管(12)送回至氧化槽(2)中。将空气管(20)连接至循环管(12),以吸入空气。
申请公布号 TW372881 申请公布日期 1999.11.01
申请号 TW087106863 申请日期 1998.05.04
申请人 三菱重工业股份有限公司 发明人 小竹进一郎;木村和明;越智英次;高品彻;冲野进
分类号 B01D53/34 主分类号 B01D53/34
代理机构 代理人 陈长文
主权项 1.一种包含吸收塔之气液接触装置,其中废气之脱硫及其他处理系经由使贮存于流体储槽中之吸收流体自设置于该吸收塔内之喷嘴向上喷出,及同时自吸收塔之下方部分将废气引入至该吸收塔中,并使其向上流过吸收流体注入区域而进行,其特征在于将该流体储槽之流体液位定成高于该喷嘴之位置,在高于该流体液位处装设捕集装置,并使该捕集装置可捕集至少一部分自该喷嘴喷出之吸收流体,并经由循环通道将被该捕集装置所捕集之吸收流体送回至该流体储槽。2.根据申请专利范围第1项之气液接触装置,其中将集雾器装置装设在该吸收塔内高于其之气液接触区域之位置,并将被该集雾器装置所收集之雾滴送回至该流体储槽。3.根据申请专利范围第1或2项之气液接触装置,其中该吸收塔之上方部分的截面积经扩大。4.根据申请专利范围第1或2项之气液接触装置,其中该流体储槽系作为氧化槽用,以进行吸收流体之氧化反应。5.根据申请专利范围第4项之气液接触装置,其中该用于将吸收流体自该捕集装置送回至该流体储槽之循环通道包括与大气隔绝之循环管。6.根据申请专利范围第5项之气液接触装置,其中该循环管之下端向下延伸并沉入该流体储槽内之吸收流体中,及将空气管连接至该循环管,以使空气在将吸收流体送回之同时供给至该流体储槽内之吸收流体中。7.根据申请专利范围第1或2项之气液接触装置,其中该废气系在不低于5米/秒之高速度下流动。图式简单说明:第一图系根据本发明之范例气液接触装置之示意图;第二图系取自第一图之直线A-A之剖面图;第三图系使用于其中之捕集装置之透视图;第四图系显示废气之流速与脱硫度间之关系之图,废气之流速(米/秒)绘成横座标,及脱硫度(%)绘成纵座标;以及第五图系习知之气液接触装置之示意图。
地址 日本