| 发明名称 |
PHOTOSENSITIVE POSITIVE COMPOSITION AND PHOTORESIST MATERIAL PREPARED THEREWITH |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
EP0220645(B1) |
申请公布日期 |
1990.09.12 |
| 申请号 |
EP19860114510 |
申请日期 |
1986.10.20 |
| 申请人 |
HOECHST CELANESE CORPORATION |
发明人 |
DURHAM, DANA |
| 分类号 |
G03C1/72;H01L21/027;G03F7/004;G03F7/022 |
主分类号 |
G03C1/72 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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