| 发明名称 | 用于指示膜层变化的宽频带光学终点检测系统与方法 | ||
| 摘要 | 公开了一种用于在化学机械抛光制程中检测终点的系统与方法，包括利用第一宽频带光束(132)照射晶片(300)表面的第一部分。接收第一反射光谱数据。第一反射光谱数据(308)对应于从晶片表面的第一照射部分反射的第一光谱的光。利用第二宽频带光束照射晶片表面的第二部分。第二反射光谱数据对应于从晶片表面的第二照射部分反射的第二光谱的光。将第一反射光谱数据和第二反射光谱数据标准化，基于标准化的第一光谱数据与第二光谱数据之间的差别来确定终点。 | ||
| 申请公布号 | CN1643662A | 申请公布日期 | 2005.07.20 |
| 申请号 | CN03807422.2 | 申请日期 | 2003.03.26 |
| 申请人 | 兰姆研究有限公司 | 发明人 | V·卡茨;B·米切尔 |
| 分类号 | H01L21/306;B24B49/12;G01B11/28 | 主分类号 | H01L21/306 |
| 代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人 | 邹光新;梁永 |
| 主权项 | 1.一种用于在化学机械抛光制程中检测终点的方法，包括：利用第一宽频带光束，照射晶片表面的第一部分；接收第一反射光谱数据，该数据对应于自晶片表面的第一照射部分反射的第一多个光谱的光；利用第二宽频带光束，照射晶片表面的第二部分；接收第二反射光谱数据，该数据对应于自晶片表面的第二照射部分反射的第二多个光谱的光；将该第一反射光谱数据标准化；将该第二反射光谱数据标准化；以及基于标准化的第一光谱数据与标准化的第二光谱数据的差别，确定终点。 | ||
| 地址 | 美国加利福尼亚州 | ||