PLASMA PROCESSING AND DEPOSITION APPARATUS,申请号JP19880304187-传众专利搜索

发明名称	PLASMA PROCESSING AND DEPOSITION APPARATUS
摘要
申请公布号	JPH02151021(A)	申请公布日期	1990.06.11
申请号	JP19880304187	申请日期	1988.12.02
申请人	AGENCY OF IND SCIENCE & TECHNOL;CITIZEN WATCH CO LTD;ANELVA CORP	发明人	KONDO YASUSHI;HAYASHI YUTAKA;ISHII KENICHI;KINOSHITA EITA;SASAKI MASAMI
分类号	C23C14/22;C23C14/24;C23F4/00;H01L21/205;H01L21/302;H01L21/3065;H01L21/31	主分类号	C23C14/22
代理机构		代理人
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