| 发明名称 |
BURIED-IN DIFFUSION PROCESS IN BIPOLAR IC MANUFACTURE |
| 摘要 |
|
| 申请公布号 |
JPH02151035(A) |
申请公布日期 |
1990.06.11 |
| 申请号 |
JP19880305757 |
申请日期 |
1988.12.01 |
| 申请人 |
KYUSHU ELECTRON METAL CO LTD;OSAKA TITANIUM CO LTD |
发明人 |
KANEKO TERUHIKO;DOI ATSUYUKI |
| 分类号 |
H01L29/73;H01L21/322;H01L21/331;H01L21/74 |
主分类号 |
H01L29/73 |
| 代理机构 |
|
代理人 |
|
| 主权项 |
|
| 地址 |
|
