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发明名称 PHOTORESIST RESIN AND MANUFACTURING METHOD THEREOF AND PHOTORESIST COMPOSITION CONTAINING THE SAME
摘要
申请公布号 KR100249312(B1) 申请公布日期 2000.06.01
申请号 KR19970017744 申请日期 1997.05.08
申请人 SAMSUNG ELECTRONICS CO.,LTD. 发明人 BAEK, EUN KYUNG;YOUN, BYUNG JOO
分类号 G03F7/004;(IPC1-7):G03F7/004 主分类号 G03F7/004
代理机构 代理人
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