| 发明名称 | 等离子体处理设备及其过渡腔室 | ||
| 摘要 | 本发明公开了一种等离子体处理设备的过渡腔室，其中设置载板升降装置，该载板升降装置能够在竖直方向上往复运动；基片载板进入所述过渡腔室后，所述载板升降装置能够使其脱离所述载板传送装置。本发明还提供一种包括上述过渡腔室的等离子体处理设备。本发明将单次装载或者卸载一块基片载板的操作方式改进为单次装载或者卸载两块或者多块基片载板的操作方式，因而显著提升了装载或者卸载的效率，进而有效提高了等离子体处理设备的产能。另一方面，由于可以向各个反应腔室中均传送一个基片载板，各基片载板可以在同一工艺周期内同步完成完整的工艺过程，进而确保基片具有较高的加工质量。 | ||
| 申请公布号 | CN101330032A | 申请公布日期 | 2008.12.24 |
| 申请号 | CN200810117009.5 | 申请日期 | 2008.07.22 |
| 申请人 | 北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司 | 发明人 | 于大洋 |
| 分类号 | H01L21/677(2006.01);H01L21/00(2006.01);C23C16/54(2006.01) | 主分类号 | H01L21/677(2006.01) |
| 代理机构 | 北京集佳知识产权代理有限公司 | 代理人 | 魏晓波;逯长明 |
| 主权项 | 1、一种过渡腔室，设置于等离子体处理设备的工艺腔室与大气环境之间，基片载板在载板传送装置的带动下自大气环境或者工艺腔室进入该过渡腔室；其特征在于，所述过渡腔室中设置载板升降装置，该载板升降装置能够在竖直方向上往复运动；基片载板进入所述过渡腔室后，所述载板升降装置能够使其脱离所述载板传送装置。 | ||
| 地址 | 100016北京市朝阳区酒仙桥东路1号 | ||