发明名称 |
レチクル整形装置、方法及びそれに用いる露光装置 |
摘要 |
【課題】【解決手段】レチクル整形装置(100)であって、上表面(150)と下表面(160)を有する吸着装置(110)、及び位置決め面(210)を有する位置決め装置(200)を含み、吸着装置(110)は少なくとも位置決め装置(200)に対して垂直方向に動作し、吸着装置(110)の上表面(150)は位置決め面(210)と向かい合い、かつ位置決め面(210)と相互に接合し;更に、吸着装置(110)の下表面(160)に負圧源と接続することでレクチル(700)を負圧吸着するために用いる真空チャンバー(111)が形成され;吸着装置(110)の下表面(160)に更にレチクル(700)吸着時に持続的に吸着装置(110)の下表面(160)とレチクル(700)の間に向かって正圧気流を供給するために用いる、正圧源と接続する少なくとも一つの正圧出口が形成され、正圧気流の大小は吸着装置(110)がレチクル(700)を吸着可能な状況で吸着装置(110)の下表面(160)とレチクル(700)の間にエア浮き面(140)を形成するように制御され、レチクル(700)の変形を解消し、露光プロセスにおいてレチクル(700)を良好な平面度とすることで、変形したレチクル(700)と吸着装置(110)の間に真空とエア浮き面を比較的容易に構築することが可能である。 |
申请公布号 |
JP2016526701(A) |
申请公布日期 |
2016.09.05 |
申请号 |
JP20160520258 |
申请日期 |
2014.06.10 |
申请人 |
シャンハイ マイクロ エレクトロニクス イクイプメント カンパニー リミティド |
发明人 |
ワン,シンシン;ジャン,シュィツゥ;ヂュー,ウェンジン;ワン,シャオガァン |
分类号 |
G03F7/20;B65G49/06;H01L21/677 |
主分类号 |
G03F7/20 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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