首页 产品 黄页 商标 征信
会员服务 注册 登录 
全部
 |
企业名
 |
法人/股东/高管
 |
品牌/产品
 |
地址
 |
经营范围
发明名称 Halbleitervorrichtung und Verfahren zur Herstellung derselben
摘要
申请公布号 DE19632110(C2) 申请公布日期 1998.06.18
申请号 DE19961032110 申请日期 1996.08.08
申请人 MITSUBISHI DENKI K.K., TOKIO/TOKYO, JP 发明人 WATABE, KIYOTO, TOKIO/TOKYO, JP;TERASHIMA, TOMOHIDE, TOKIO/TOKYO, JP
分类号 H01L21/76;H01L21/8234;H01L27/088;H01L27/12;H01L29/10;H01L29/739;H01L29/78;H01L29/786;(IPC1-7):H01L29/78;H01L21/336 主分类号 H01L21/76
代理机构 代理人
主权项
地址
您可能感兴趣的专利
©  2024 传众  czvv.com