| 发明名称 |
Processing chamber for atomic layer deposition processes |
| 摘要 |
|
| 申请公布号 |
AU2368500(A) |
申请公布日期 |
2000.07.24 |
| 申请号 |
AU20000023685 |
申请日期 |
1999.12.16 |
| 申请人 |
GENUS, INC. |
发明人 |
KENNETH DOERING;CARL J. GALEWSKI;PRASAD N. GADGIL;THOMAS E. SEIDEL |
| 分类号 |
B01J19/00;C23C16/44;C23C16/455;C23C16/458;C23C16/46;C23C16/54;C30B25/12;C30B25/14;H01J37/32;H01L21/00;H01L21/205 |
主分类号 |
B01J19/00 |
| 代理机构 |
|
代理人 |
|
| 主权项 |
|
| 地址 |
|
