一种利用强电场的真空热蒸镀成膜方法

摘要

本发明为一种利用强电场的真空热蒸镀成膜方法。它以传统的真空热蒸镀成膜方法为基础，引入强电场，使蒸发源里的材料粒子带上电荷，再通过加热蒸发，使这些带电的分子或粒子飞出，飞出的分子或粒子在电磁场的调控下精确飞向基板，最终成膜。与传统的热蒸发相比，本发明能够对蒸发出来的粒子的飞行方向和速度进行精确控制，从而提高所得到的光电子与磁器件的光电磁性能，并带来一系列其他领域的应用。

主权项

1.一种真空热蒸镀成膜方法，以传统的真空热蒸镀成膜技术为基础，其特征在于引入强电场，使蒸发源里的材料分子或粒子带上电荷，再通过加热蒸发，使这些带电分子或者粒子飞出，并在电磁场控制下精确飞向基板，最终成膜；其中：所述蒸发源采用金属微尖式蒸发源，该蒸发源由里面的金属微尖和外面的绝缘微尖套及待蒸发材料构成，绝缘微尖套的顶部开有一个直径为0.1-3.0mm的微孔作为材料蒸发口，待蒸发材料设置于金属微尖与绝缘微尖套之间； 所述引入强电场是金属微尖上方0.1-10cm的位置处设置一个导电栅极，金属微尖和栅极之间施加5000伏-100000伏之间的高电压，系统的真空度保持10-2到10-6帕；在栅极后面加上电磁场控制电路，对飞出的粒子束进行筛选、聚焦、加速、减速，以及定向飞行的控制；其中：如果是用金属微尖自身通电加热，所述金属微尖的材料采用钼、钛、锆、镍、石墨、钨钼合金之中一种；如果金属微尖是通过外部加热的，所述金属微尖材料采用钼、钛、锆、镍、铝、锰、铅、钡、钴、锑、铋、铬、镁、锡、石墨、钨钼合金、铸铁、碳素钢、青铜之中一种；金属微尖的角度为0-70度。