发明名称 |
平版印刷装置,器件的制造方法 |
摘要 |
预测由于用于平版印刷装置中的掩膜MA的表面污染引起的传输损失,作为在掩膜上的位置和时间的函数。在曝光时的传输损失,用能够在整个曝光区域的长度上调节光束强度的设备进行补偿。 |
申请公布号 |
CN100367112C |
申请公布日期 |
2008.02.06 |
申请号 |
CN02139995.6 |
申请日期 |
2002.12.10 |
申请人 |
ASML荷兰有限公司 |
发明人 |
P·范德维恩 |
分类号 |
G03F7/20(2006.01);G06F7/00(2006.01) |
主分类号 |
G03F7/20(2006.01) |
代理机构 |
中国专利代理(香港)有限公司 |
代理人 |
章社杲 |
主权项 |
1.一种平版印刷投射装置包括:一个用于提供辐射光束的辐射系统;一个用于支撑掩膜的支撑结构,所述掩膜适合于根据理想的图案使辐射光束形成图案;用于支撑基片的基片台;用于将图案的光束投射到基片的靶部上的投射系统,其特征在于:预测装置用于基于掩膜的图形,预测由于所述掩膜的表面污染产生的图案辐射光束的不希望的时间或空间的强度损失;和补偿装置响应于预测的强度损失,用于对预测的强度损失进行补偿。 |
地址 |
荷兰维尔德霍芬 |