| 主权项 |
1.一种可以减少从一贮槽所输送的一超高纯度气态产品内所含挥发性杂质的控制出气系统,此贮槽贮存有非冷冻性液态产品及在该液态产品上方具有一气态蒸气空间,包含:一连接至该贮槽的排气管路,用于从该气态蒸气空间排出气态蒸气;及一位于该排气管路内的冷凝器。2.如申请专利范围第1项的控制出气系统,其进一步包含:一冷媒源;和一将冷媒在该冷凝器和该冷媒源间传送的传送机构。3.如申请专利范围第2项的控制出气系统,其中该冷媒源是一种冷冻剂。4.如申请专利范围第1项的控制出气系统,其中该冷凝器是一壳管式热交换器。5.一种减少贮槽内气态蒸气里所含挥发性杂质的方法,该贮槽贮存有非冷冻性液态产品及在该液态产品上方有一气态蒸气空间,包含下列步骤:(a)从该气态蒸气空间排出部份的该气态蒸气到一冷凝器;(b)是在冷凝器中将此排出的气态蒸气冷却到该液态产品沸点以下但却是挥发性杂质沸点以上的温度,以使该被排出的气态蒸气之第一部份被冷凝下来,且使该被排出的气态蒸气之第二部份不被冷凝下来在冷凝器;和(c)将被排出的气态蒸气之第二部份从冷凝器排除掉。6.如申请专利范围第5项之减少挥发性杂质的方法,其进一步包含下列步骤:(d)将被排出的气态蒸气中被冷凝下来的第一部份送回到该贮槽;并且(e)重覆步骤(a)到(d)。7.一种从贮存有非冷冻性液态产品及在该液态产品上方有一气态蒸气空间的贮槽输送超高纯度之气态产品的方法,包含下列步骤:(a)减少该气态蒸气内挥发性杂质;(b)由贮槽的气态蒸气空间抽取该气态产品;(c)以大于周遭热源的一热源加热此抽取的气态产品;(d)使此被加热的抽取气态产品以和该液态产品进行热交换的关系流动;(e)视需要,重覆步骤(b)到(d)以不断地气化该液态产品以保持贮槽内该气态蒸气的一压力;和(f)在该气态产品和该液态产品进行热交换关系的流动之后,将此气态产品从该贮槽抽取出来。8.如申请专利范围第7项的输送气态产品的方法,其中的减少该气态蒸气内挥发性杂质的步骤包含下列次步骤:(a)从该气态蒸气空间将部份的气态蒸气排出到一冷凝器;(b)在该冷凝器里将此气态蒸气冷却到该液态产品沸点以下但却是挥发性杂质沸点以上的温度,于是此被排出的该气态蒸气之一第一部份被冷凝下来,且此被排出的该气态蒸气之一第二部份不会被冷凝下来;(c)将此被排出的气态蒸气之第二部份从该冷凝器排除掉;(d)将冷凝下来的被排出来的气态蒸气之第一部份送回到该冷凝器;及(e)重覆次步骤(a)到(d)。9.如申请专利范围第8项的输送气态产品的方法,其进一步地包含藉着从贮槽抽取气态产品和[或]在没有使用气态产品的期间从该蒸气空间排出该气态蒸气来维持该蒸气空间的一压力。10.一种从一贮槽输送超高纯度的气态产品的系统,该贮槽贮存有非冷冻性液态产品及一气态蒸气位在该液态产品上方的一蒸气空间,该气态蒸气含有挥发性杂质,包含:一用于减少挥发性杂质的控制出气系统;从该贮槽抽取气态产品的机构;一以大于周遭热源的一热源来加热该被抽取出来的气态产品的加热器;一使该被加热了的抽取出来的气态产品和液态产品间进行热交换的热交换机构;在气态产品经过和液态产品间进行热量交换之后,将此气态产品从贮槽抽取出来的一机构;及不论有没有产品输送和[或]使用的需求,一用于维持该贮槽内加压的气态产品之压力保持机构。11.如申请专利范围第10项的输送气态产品的系统,其进一步包含一藉着从贮槽抽取气态产品和[或]在没有使用气态产品的期间从该蒸气空间排除掉一些气态蒸气来维持该蒸气空间的一压力的机构。12.如申请专利范围第10项的输送气态产品的系统,其中该用于减少挥发性杂质的控制出气系统包含:一连接于该贮槽的排气管路,其可以从该气态蒸气空间排出气态蒸气;和一位于该排气管路内一冷凝器。13.如申请专利范围第12项的输送气态产品的系统,其进一步包含:一冷媒源;和一用于在该冷凝器和冷媒源之间传送冷媒的输送机构。14.如申请专利范围第13项的输送气态产品的系统,其进一步包含:用于在该冷媒源和邻近于一填充钢瓶的至少一个热交换器之间传送冷媒的另一输送机构。15.一种输送超高纯度之气态产品的系统,包括一适于贮存一非冷冻性液态产品及压力下的该气态产品,该气态产品位于该液态产品上之一气态蒸气空间;从该贮槽抽取该气态产品的机构;加热机构用于以大于周遭环境热的一热源对被抽取出来的气态产品加热;热交换机构用于在该被加热的抽取出来的气态产品和该液态产品间进行热交换;用于在该气态产品与该液态产品进行热交换之后,将该气态产品输送到使用点的机构;用于在不论需要输送产品和(或)使用下,保持该贮槽内的加压状态气体产品的压力保持机构;以及在不需要输送和(或)使用气态产品时,排出该被抽取出来的气态产品的机构,其改良之处包含:一连接于该贮槽的排气管路,其可以从该气态蒸气空间排出气态蒸气;和一位于该排气管路内一冷凝器。16.如申请专利范围第1项的控制出气系统,其中该液态产品系选自由NH3,HF,SiHCl3,SiH2Cl2,C4F8,C3F8,Cl2,C2F6,及N2O所组成的族群。17.如申请专利范围第5项之减少挥发性杂质的方法,其中该液态产品系选自由NH3,HF,SiHCl3,SiH2Cl2,C4F8,C3F8,Cl2,C2F6,及N2O所组成的族群。18.如申请专利范围第7项的输送气态产品的方法,其中该液态产品系选自由NH3,HF,SiHCl3,SiH2Cl2,C4F8,C3F8,Cl2,C2F6,及N2O所组成的族群。19.如申请专利范围第10项的输送气态产品的系统,其中该液态产品系选自由NH3,HF,SiHCl3,SiH2Cl2,C4F8,C3F8,Cl2,C2F6,及N2O所组成的族群。20.一种用于贮存一非冷冻性液态产品的贮槽,该贮槽在该液态产品上方具有一气态蒸气空间,该贮槽具有一用于减少从该贮槽输送出来的超高纯度的气态产品内所含挥发性杂质的控制出气系统,其中该控制出气系统包含:一连接于该贮槽的排气管路,其用于从该气态蒸气空间排出气态蒸气;和一位于该排气管路内的冷凝器。21.如申请专利范围第8项的输送气态产品的方法,其中从该冷凝器排除掉的被排出的气态蒸气之第二部份低于该气态产品的10%。图式简单说明:第一图是说明本发明的示意图示。 |
