| 主权项 |
1.一种化学处理塔,其包括:一塔内具有至少一个塔盘支承件;一下导管内具有使液体从那里流动的一出口,该下导管被设置在所述之塔内而且是在塔盘支承件上方;一塔盘被支承在所述之塔内和所述之下导管下方的塔盘支承件上,所述之塔盘在所述之塔盘一顶面上具有一塔盘支承区,其位置是在塔盘支承件接合至所述之塔盘的正上方,在该塔盘的顶面上还具有一塔盘入口区域,该区域限定容置来自下导管出口液体的一接触区域;和所述之塔盘的入口区域被大致配置在所述之塔盘的塔盘支承区内。2.如申请专利范围第1项所述之化学处理塔,其中所述之下导管包括对所述之出口呈锥形的半圆锥形壁。3.如申请专利范围第1项所述之化学处理塔,其中所述之塔盘包括一入口溢流堰,其系设置在围绕所述之塔盘入口区域的所述之塔盘一上表面上。4.如申请专利范围第3项所述之化学处理塔,其中所述之塔盘的入口溢流堰包括一顶边,且其中所述之下导管的出口是设置在所述之塔盘的入口溢流堰的顶边下方。5.如申请专利范围第3项所述之化学处理塔,其中所述之塔盘包括一作用区域和至少一个供所述之蒸汽流通的通气室,以致使对横穿所述之作用区域的蒸汽对来自所述之入口溢流堰的液体施力。6.如申请专利范围第1项所述之化学处理塔,其中所述之塔的塔盘支承件包含一支承环。7.如申请专利范围第6项所述之化学处理塔,其中所述之下导管包括对所述之出口呈锥形的半圆锥形壁。8.如申请专利范围第6项所述之化学处理塔,其中所述之塔盘包括一入口溢流堰,其系设置在围绕所述之塔盘入口区域的所述之塔盘一上表面上。9.如申请专利范围第8项所述之化学处理塔,其中所述之塔盘的入口溢流堰包括一顶边,且其中所述之下导管的出口是设置在所述之塔盘的入口溢流堰的顶边下方。10.如申请专利范围第8项所述之化学处理塔,其中所述之塔盘包括一作用区域和至少一个供所述之蒸汽流通的通气室,以致使对横穿所述之作用区域的蒸汽对来自所述之入口溢流堰的液体施力。11.如申请专利范围第1项所述之化学处理塔,其进一步包括一上塔盘,其具有一出口溢流堰,所述之上塔盘被设置成使流体越过该出口溢流堰而进入下导管内。12.如申请专利范围第11项所述之化学处理塔,其中所述之上塔盘的出口溢流堰是一弦状出口溢流堰。13.如申请专利范围第11项所述之化学处理塔,其中所述之上塔盘的出口溢流堰是一多段出口溢流堰。14.如申请专利范围第11项所述之化学处理塔,其中所述之上塔盘的出口溢流堰是一弧形出口溢流堰。15.如申请专利范围第14项所述之化学处理塔,其中所述之弧形出口溢流堰是一半圆形出口溢流堰。16.如申请专利范围第11项所述之化学处理塔,其中所述之下导管包括对所述之出口呈锥形的半圆锥形壁。17.如申请专利范围第11项所述之化学处理塔,其中所述之塔盘包括一入口溢流堰,其系设置在围绕所述之塔盘入口区域的所述之塔盘一上表面上。18.如申请专利范围第17项所述之化学处理塔,其中所述之塔盘的入口溢流堰包括一顶边,且其中所述之下导管的出口是设置在所述之塔盘的入口溢流堰的顶边下方。19.如申请专利范围第17项所述之化学处理塔,其中所述之塔盘包括一作用区域和至少一个供所述之蒸汽流通的通气室,以致使对横穿所述之作用区域的蒸汽对来自所述之入口溢流堰的液体施力。20.如申请专利范围第11项所述之化学处理塔,其中所述之塔的塔盘支承件包含一支承环。21.一种混合一气体与一液体之方法,该液体是由一下导管排出到一化学处理塔的一塔盘上,该方法包含下列之步骤:以一塔盘支承件将加工柱内之塔盘支承在该塔盘的一塔盘支承区下方;形成具有一下导管出口的一下导管,该出口具有宽度大致相当于所述之塔盘支承件的宽度;和大致在所述之塔盘支承区上方定位该下导管出口以限定该塔盘的一塔盘入口区域。22.如申请专利范围第21项所述之方法,其包括在呈锥形下导管出口形成具有半圆锥形壁之下导管的步骤。23.如申请专利范围第21项所述之方法,其包括在围绕塔盘入口区域的塔盘上形成一入口溢流堰的步骤。24.如申请专利范围第23项所述之方法,其中定位该下导管的步骤包括将下导管出口设置在塔盘之入口溢流堰的一顶边下方。25.如申请专利范围第23项所述之方法,其中形成一入口溢流堰的步骤包括以下导管出口上方的一顶边形成该入口溢流堰。26.如申请专利范围第23项所述之方法,其包括在塔盘上形成至少一个通气室以流通蒸汽的步骤,以致使横穿该塔盘一作用区域的蒸汽对来自入口溢流堰的液体施力。27.如申请专利范围第21项所述之方法,其中塔盘支承件包含一支承环。28.如申请专利范围第27项所述之方法,其包括在呈锥形下导管出口形成具有半圆锥形壁之下导管的步骤。29.如申请专利范围第27项所述之方法,其包括在围绕塔盘入口区域的塔盘上形成一入口溢流堰的步骤。30.如申请专利范围第29项所述之方法,其中定位该下导管的步骤包括将下导管出口设置在塔盘之入口溢流堰的一顶边下方。31.如申请专利范围第29项所述之方法,其中形成一入口溢流堰的步骤包括以下导管出口上方的一顶边形成该入口溢流堰。32.如申请专利范围第29项所述之方法,其包括在塔盘上形成至少一个通气室以流通蒸汽的步骤,以致使横穿该塔盘一作用区域的蒸汽对来自入口溢流堰的液体施力。33.如申请专利范围第21项所述之方法,其进一步包含下列之步骤:形成一上塔盘,该塔盘具有一出口溢流堰;和将上塔盘置于定位,以致使越过该出口溢流堰的流体流入下导管内。34.如申请专利范围第33项所述之方法,其中形成上塔盘的步骤包括以具有一弦状的出口溢流堰形成该上塔盘。35.如申请专利范围第33项所述之方法,其中形成上塔盘的步骤包括以具有一多重弦状的出口溢流堰形成该上塔盘。36.如申请专利范围第33项所述之方法,其中形成上塔盘的步骤包括以具有一弦状的出口溢流堰形成该上塔盘。37.如申请专利范围第36项所述之方法,其中出口溢流堰的弧状是半圆形。38.如申请专利范围第33项所述之方法,其包括在呈锥形下导管出口形成具有半圆锥形壁之下导管的步骤。39.如申请专利范围第33项所述之方法,其包括在围绕塔盘入口区域的塔盘上形成一入口溢流堰的步骤。40.如申请专利范围第39项所述之方法,其中定位该下导管的步骤包括将下导管出口设置在塔盘之入口溢流堰的一顶边下方。41.如申请专利范围第39项所述之方法,其中形成一入口溢流堰的步骤包括以下导管出口上方的一顶边形成该入口溢流堰。42.如申请专利范围第39项所述之方法,其包括在塔盘上形成至少一个通气室以流通蒸汽的步骤,以致使横穿该塔盘一作用区域的蒸汽对来自入口溢流堰的液体施力。43.如申请专利范围第33项所述之方法,其中塔盘支承件包含一支承环。图式简单说明:第一图为一填料柱的透视图,其各部段剖开以表示塔内各式各样的内部构件,并显示一下导管塔盘组件的一个实施例,该组件是依据本发明原理所构成并配置在柱内;第二图为依据第一图所示之下导管塔盘组件之一放大局部透视图,塔的一些部分剖开以便说明本发明下导管和塔盘的结构;第三图为依据第二图所示之下导管塔盘组件之一放大局部透视图,取自于塔的内部;第四图为第二图和第三图所示之下导管塔盘组件的操作原理的一示意性侧视横截面图;第五图A为第二图和第三图所示之下导管塔盘组件一个实施例的一放大局部顶视图;第五图B为第二图和第三图所示之下导管塔盘组件另一实施例的一放大局部顶视图;和第五图C为第二图和第三图所示之下导管塔盘组件再一实施例的一放大局部顶视图 |
