| 发明名称 | 用于光致抗蚀剂组合物的抗反射涂层 | ||
| 摘要 | 本发明涉及一种新的抗反射涂层溶液及其在照相平版印刷中的应用。该反射涂层溶液包括新的聚合物和有机溶剂或有机溶剂的混合物,其中该新的聚合物包括含有吸收约180nm－450nm染料的单元和含有交联基团的单元。 | ||
| 申请公布号 | CN1232552A | 申请公布日期 | 1999.10.20 |
| 申请号 | CN97198410.7 | 申请日期 | 1997.09.26 |
| 申请人 | 克拉里安特国际有限公司 | 发明人 | I·穆库洛奇;R·R·达米尔;A·J·科尔索;丁术李;D·L·杜哈姆;卢炳宏;康鸣;D·N·克哈纳 |
| 分类号 | G03F7/09;G03C1/835 | 主分类号 | G03F7/09 |
| 代理机构 | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人 | 陈季壮 |
| 主权项 | 1．一种照相平版印刷用的抗反射涂层组合物，包括：a)一种聚合物，含有至少一种具有下面的结构的染料单元：<img file="A9719841000021.GIF" wi="377" he="652" />其中R<sub>1</sub>-R<sub>3</sub>各自独立地是H、(C<sub>1</sub>-C<sub>10</sub>)烷基或(C<sub>1</sub>-C<sub>10</sub>)烷氧基，X<sub>1</sub>是C=O、OCO、CONH、O、芳基、(C<sub>1</sub>-C<sub>10</sub>)烷基、环己基、吡啶或吡咯烷酮，X<sub>2</sub>是S、S(C<sub>1</sub>-C<sub>10</sub>)烷基、O、O(C<sub>1</sub>-C<sub>10</sub>)烷基、NH、N(C<sub>1</sub>-C<sub>10</sub>)烷基、烷基、或羟(C<sub>1</sub>-C<sub>10</sub>)烷基，n=0-2，A是吸电子基团，R<sub>4</sub>是H、(C<sub>1</sub>-C<sub>10</sub>)烷基、(C<sub>1</sub>-C<sub>10</sub>)烷氧基、硝基、卤化物、氰基、芳基、烷芳基、链烯基、二氰基乙烯基或SO<sub>2</sub>CF<sub>3</sub>、COOZ、SO<sub>3</sub>Z、COZ、OZ、NZ<sub>2</sub>、SZ、SO<sub>2</sub>Z、NHCOZ或SO<sub>2</sub>NZ<sub>2</sub>，其中Z是H或(C<sub>1</sub>-C<sub>10</sub>)烷基，Y是共轭部分N=N、CW=CW、CW=N或N=CW，其中W是H、(C<sub>1</sub>-C<sub>10</sub>)烷基或(C<sub>1</sub>-C<sub>10</sub>)烷氧基，m=1-5，和至少一种具有下面的结构的能够交联该聚合物的单元：<img file="A9719841000031.GIF" wi="238" he="167" />其中G含有一个交联官能键和R<sub>1</sub>-R<sub>3</sub>各自独立地是H、(C<sub>1</sub>-C<sub>10</sub>)烷基或(C<sub>1</sub>-C<sub>10</sub>)烷氧基，和b)一种合适的溶剂。 | ||
| 地址 | 瑞士穆腾茨 | ||