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发明名称 PROCESSING CHAMBER FOR ATOMIC LAYER DEPOSITION PROCESSES
摘要
申请公布号 KR20020006020(A) 申请公布日期 2002.01.18
申请号 KR1020017008296 申请日期 2001.06.29
申请人 发明人
分类号 H01L21/205 主分类号 H01L21/205
代理机构 代理人
主权项
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