发明名称 一种c轴取向钡铁氧体薄膜的制备方法
摘要 一种c轴取向钡铁氧体薄膜的制备方法,属于材料技术领域,涉及钡铁氧体薄膜,尤其是c轴取向钡铁氧体薄膜的制备方法。首先将硝酸铁、硝酸钡溶于水和乙二醇的混合溶剂中,得到混合溶液A;然后取一定体积L的混合溶液A,并按0.05~0.20g/ml的比例加入PVP,溶解得到溶胶B;再将步骤2溶胶B旋涂于(001)晶向的蓝宝石基片上,形成薄膜C;再薄膜C进行干燥和热处理,即得到c轴取向钡铁氧体薄膜。本发明具有工艺流程简单、成本低,对生产设备要求不高的特点;并且可实现薄膜的成分的方便调节和膜层厚度的控制。本发明所制备的c轴取向钡铁氧体薄膜具有结构和性能上的各向异性,可用于磁记录介质材料、微波铁氧体器件中。
申请公布号 CN101599364A 申请公布日期 2009.12.09
申请号 CN200910059863.5 申请日期 2009.07.01
申请人 电子科技大学 发明人 彭斌;唐浩;张文旭;张万里
分类号 H01F41/24(2006.01)I;H01F41/22(2006.01)I;H01F1/10(2006.01)I 主分类号 H01F41/24(2006.01)I
代理机构 电子科技大学专利中心 代理人 葛启函
主权项 1、一种c轴取向钡铁氧体薄膜的制备方法,包括以下步骤:步骤1:将硝酸铁、硝酸钡溶于水和乙二醇的混合溶剂中,得到混合溶液A,控制混合溶液A中的铁离子和钡离子的摩尔比在10~13之间;其中混合溶剂中水和乙二醇的体积比在0.5~1之间;步骤2:取一定体积L的混合溶液A,并按0.05~0.20g/ml的比例加入PVP,搅拌使PVP充分溶解,得到溶胶B;步骤3:将步骤2所得的溶胶B旋涂于洁净的(001)晶向的蓝宝石基片上,形成薄膜C;步骤4:对步骤3所得的薄膜C进行干燥处理;步骤5:对干燥处理后的薄膜C进行热处理,得到单层c轴取向钡铁氧体薄膜。所述热处理步骤分为两个阶段:首先控制温度在500~550℃,时间1小时以上,降解有机物;然后控制温度在1000~1100℃下退火1小时以上;步骤6:重复步骤3至步骤5,得到设计厚度的c轴取向钡铁氧体薄膜。
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