METHOD FOR THERMALLY TREATING THIN POLYCRYSTAL SEMICONDUCTOR FILM,申请号JP19890297914-传众专利搜索

发明名称	METHOD FOR THERMALLY TREATING THIN POLYCRYSTAL SEMICONDUCTOR FILM
摘要
申请公布号	JPH03159116(A)	申请公布日期	1991.07.09
申请号	JP19890297914	申请日期	1989.11.16
申请人	SONY CORP	发明人	NOGUCHI TAKASHI
分类号	H01L21/20;H01L21/265;H01L21/268;H01L21/324;H01L21/336;H01L29/78;H01L29/786	主分类号	H01L21/20
代理机构		代理人
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