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发明名称 WAFER PROBING APPARATUS AND METHOD OF CLEANING IT
摘要
申请公布号 JPH1092885(A) 申请公布日期 1998.04.10
申请号 JP19960243288 申请日期 1996.09.13
申请人 TOSHIBA MICROELECTRON CORP;TOSHIBA CORP 发明人 TAKUBO TOMOAKI;TAZAWA HIROSHI;HOSOMI HIDEKAZU;HIRUTA YOICHI;SHIBAZAKI YASUSHI;OKADA TAKASHI;DOI KAZUHIDE;HIRANO NAOHIKO
分类号 G01R1/06;G01R31/28;H01L21/304;H01L21/66;(IPC1-7):H01L21/66 主分类号 G01R1/06
代理机构 代理人
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