发明名称 | 防止挡片剥落之方法 | ||
摘要 | 一种防止挡片剥落之方法,首先提供一挡片,然后对挡片进行一图形定义,最后再形成至少一沈积层于挡片上。由于挡片上已经有经过图形定义流程,所以形成沈积层时,可以避免应力较大沈积层发生剥落情形。 | ||
申请公布号 | TW406288 | 申请公布日期 | 2000.09.21 |
申请号 | TW088106100 | 申请日期 | 1999.04.16 |
申请人 | 联华电子股份有限公司 | 发明人 | 蔡荣辉;王起明 |
分类号 | H01L21/00 | 主分类号 | H01L21/00 |
代理机构 | 代理人 | 詹铭文 台北巿罗斯福路二段一○○号七楼之一 | |
主权项 | 1.一种防止挡片剥落之方法,包括:提供一挡片;对该挡片进行一图形定义;以及形成至少一沈积层,于该挡片上。2.如申请专利范围第1项所述之防止挡片剥落之方法,其中该图形定义系使用一化学液,将该挡片进行一表面处理。3.如申请专利范围第2项所述之防止挡片剥落之方法,其中该化学液系为一磷酸。4.如申请专利范围第2项所述之防止挡片剥落之方法,其中该表面处理系将挡片分成复数个小晶格。5.如申请专利范围第2项所述之防止挡片剥落之方法,其中该表面处理系将挡片表面造成凹凸不平。6.如申请专利范围第1项所述之防止挡片剥落之方法,其中该挡片系为一矽基底。7.如申请专利范围第1项所述之防止挡片剥落之方法,其中该沈积层包括一氮化矽。8.如申请专利范围第1项所述之防止挡片剥落之方法,其中该沈积层包括一复晶矽。9.如申请专利范围第1项所述之防止挡片剥落之方法,其中该沈积层包括一氧化层。图式简单说明:第一图绘示低压化学气相沈积之炉管结构;第二图A与第二图B绘示习知挡片之剖面与侧视图;以及第三图A与第三图B绘示本发明一较佳实施例的一种挡片之剖面与侧视图。 | ||
地址 | 新竹科学工业园区新竹巿力行二路三号 |