发明名称 |
一种位相共轭成像光刻系统 |
摘要 |
一种位相共轭成像光刻系统包括:激光器、第一分光镜、第二分光镜、反射镜、第一扩束镜、第二扩束镜、第三扩束镜、非线性介质、对称分光棱镜、掩膜和硅片,激光器发出的光经第一分光镜分成两路:一路经第二分光镜后又分成两路,其中一路经过第一扩束镜扩束后作为一束泵浦光进入非线性介质,其中另一路经过反射镜、第三扩束镜扩束后作为另一束泵浦光进入非线性介质;经过第二分光镜后的另一路由第二扩束镜进行扩束,经过振幅掩模后,携带着掩模的成像信息被对称分光棱镜反射进入非线性介质中,与上述的两束泵浦光发生位相共轭,产生的位相共轭光透过对称分光棱镜在感光基片上成像,完成位相共轭成像光刻。本发明实现了大口径无像差投影成像,大大降低光学系统的技术难度和成本。 |
申请公布号 |
CN101118390A |
申请公布日期 |
2008.02.06 |
申请号 |
CN200710119960.X |
申请日期 |
2007.08.06 |
申请人 |
中国科学院光电技术研究所 |
发明人 |
赵立新;唐小萍;胡松;邢薇 |
分类号 |
G03F7/20(2006.01);G02F1/355(2006.01);G02B5/04(2006.01);G02B27/10(2006.01) |
主分类号 |
G03F7/20(2006.01) |
代理机构 |
北京科迪生专利代理有限责任公司 |
代理人 |
贾玉忠;卢纪 |
主权项 |
1.一种位相共轭成像光刻系统,其特征在于包括:激光器、第一分光镜、第二分光镜、反射镜、第一扩束镜、第二扩束镜、第三扩束镜、非线性介质、对称分光棱镜、掩膜和硅片,激光器发出的光经第一分光镜分成两路:一路经第二分光镜后又分成两路,其中一路经过第一扩束镜扩束后作为一束泵浦光进入非线性介质,其中另一路经过反射镜、第三扩束镜扩束后作为另一束泵浦光进入非线性介质;经过第二分光镜后的另一路由第二扩束镜进行扩束,经过振幅掩模后,携带着掩模的成像信息被对称分光棱镜反射进入非线性介质中,与上述的两束泵浦光发生位相共轭,产生的位相共轭光透过对称分光棱镜在感光基片上成像,完成位相共轭成像光刻。 |
地址 |
610209四川省双流350信箱 |