| 发明名称 |
DEVICE AND METHOD FOR CHARGED-PARTICLE BEAM LITHOGRAPHY |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
JPH0684771(A) |
申请公布日期 |
1994.03.25 |
| 申请号 |
JP19920253478 |
申请日期 |
1992.08.31 |
| 申请人 |
TOSHIBA CORP |
发明人 |
HATTORI SEIJI;TAMAMUSHI SHUICHI |
| 分类号 |
H01L21/027;(IPC1-7):H01L21/027 |
主分类号 |
H01L21/027 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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