发明名称 |
Device for producing plasma using cathodic sputtering |
摘要 |
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申请公布号 |
EP0593924(B1) |
申请公布日期 |
1996.02.28 |
申请号 |
EP19930115314 |
申请日期 |
1993.09.23 |
申请人 |
LEYBOLD AKTIENGESELLSCHAFT |
发明人 |
LATZ, RUDOLF, DR. |
分类号 |
C23C14/34;C23C14/35;H01J37/32;H01J37/34;H01L21/203;H01L21/285;H01L21/31;(IPC1-7):H01J37/32;H05H1/46 |
主分类号 |
C23C14/34 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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