发明名称 METHOD OF FORMING THIN FILM WITH DIFFUSION BARRIER CHARACTERISTICS
摘要
申请公布号 KR0166857(B1) 申请公布日期 1999.02.01
申请号 KR19950046375 申请日期 1995.12.04
申请人 LG SEMICONDUCTOR CO., LTD. 发明人 KIM, DO-HYUNG;CHUN, SUNG-SOON;PARK, JONG-WUK;KIM, DONG-WON;RA, SA-KYUN;LEE, SEUNG-YUN;LEE, WON-JUN
分类号 H01L21/265;H01L21/28;(IPC1-7):H01L21/28 主分类号 H01L21/265
代理机构 代理人
主权项
地址