发明名称 光罩
摘要 本创作系在提供一种光罩,其系在一透明基材上形成有一层遮光膜层,该遮光膜层具有诸多图案块,此外另有一保护罩,其系罩设于上述遮光膜层之各图案块上方,该保护罩具有一位于各图案块上方之顶罩部,以及一往下延接围设于顶罩部底面四周之围罩部,使遮光膜层之各图案块被罩设包围于保护罩与基材间;其特征在于:该保护罩之围罩部中具有一层用以阻隔电场之屏蔽层,藉该屏蔽层所提供之屏蔽效应,阻止外界侧向电场对遮光膜层之各图案块感应生成侧向静电感应电荷,以防发生静电放电造成损坏。
申请公布号 TW417793 申请公布日期 2001.01.01
申请号 TW089205639 申请日期 2000.04.08
申请人 陈建璋 发明人 陈建璋
分类号 G03F1/00 主分类号 G03F1/00
代理机构 代理人 恽轶群 台北巿南京东路三段二四八号七楼;陈文郎 台北巿南京东路三段二四八号七楼
主权项 1.一种光罩,其具有一片对曝光光线而言为透明的基材,该基材面上形成有一层具有诸多图案块之遮光膜层,并在遮光膜层之各图案块上方罩设有一保护罩,该保护罩具有一位于中间之顶罩部以及往下延接围设于顶罩部底面四周之围罩部,使遮光膜层之各图案块被罩设包围于保护罩与基材间;其特征在于:该保护罩之围罩部具有一层保护膜以及一层设于该保护膜上俾用以阻隔电场之屏蔽层,以阻止外界侧向电场对遮光膜层之各图案块感应生成侧向静电感应电荷,而能防止发生静电放电造成损坏。2.依据申请专利范围第1项所述之光罩,其中,该遮光膜层之周围具有一位于各图案块外围之环围块,前述保护罩之围罩部中所设的屏蔽层底缘系对应抵接于该环围块近内缘处顶面。3.依据申请专利范围第1项所述之光罩,其中,该保护罩之围罩部中所设用以阻隔电场之屏蔽层,系设于保护层之厚度中间。4.依据申请专利范围第1项所述之光罩,其中,该保护罩之围罩部中所设用以阻隔电场之屏蔽层,系设于保护层的内侧面。5.依据申请专利范围第1项所述之光罩,其中,该保护罩之围罩部中所设用以阻隔电场之屏蔽层,系设于保护层的外侧面。6.一种光罩,其具有一片对曝光光线而言为透明的基材,该基材面上形成有一层具有诸多图案块之遮光膜层,并在遮光膜层之各图案块上方罩设有一保护罩,该保护罩具有一位于中间之顶罩部以及往下延接围设于顶罩部底面四周之围罩部,使遮光膜层之各图案块被罩设包围于保护罩与基材间;其特征在于:该保护罩之围罩部系由一层可阻隔电场之屏蔽所构成,以阻止外界侧向电场对遮光膜层之各图案块感应生成侧向静电感应电荷,俾防止发生静电放电造成损坏。7.依据申请专利范围第6项所述之光罩,其中,该遮光膜层之周围具有一位于各图案块外围之环围块,前述屏蔽层底缘系对应抵接于该环围块顶面。图式简单说明:第一图所示系一种习知光罩之剖面构造示意图。第二图所示系一种习知光罩受上下方向电场感应时其遮光膜层中相邻图案块生成静电感应电荷的状态示意图。第三图所示系一种习知光罩受侧向电场感应时其遮光膜层中相邻图案块生成静电感应电荷的状态示意图。第四图所示系本创作第一较佳可行实施例光罩之剖面构造示意图。第五图所示系本创作第二较佳可行实施例光罩之部面构造示意图。第六图所示系本创作第三较佳可行实施例光罩之剖面构造示意图。
地址 台南县永康市永大路五十一巷一三二弄七十六号
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