| 发明名称 |
Use of CMP dispersions for chemo-mechanical polishing of microlelectronic parts |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
EP1737793(A1) |
申请公布日期 |
2007.01.03 |
| 申请号 |
EP20050730307 |
申请日期 |
2005.04.12 |
| 申请人 |
TRONOX PIGMENTS GMBH |
发明人 |
AUER, GERHARD;HIPLER, FRANK;ZWICKER, GERFRIED |
| 分类号 |
C01G23/053;C01G23/047;C09C1/36;C09G1/02;C09K3/14;C23F3/00;C23F3/03;C23F3/06;H01L21/3105;H01L21/321 |
主分类号 |
C01G23/053 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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