| 摘要 |
一种基板的处理系统，包含一近接头、一机构及一液体供应部。该近接头系用以产生一控制之弯月面。具体而言，该近接头具有形成于该近接头之一面上的复数之分配喷嘴。该分配喷嘴系用以提供一液体至该弯月面，并加入抽吸孔以自该弯月面移除使用过的液体。该机构在保持该弯月面与该基板之一表面间的接触时，使该近接头或该基板相对于彼此而移动。该移动造成在由该弯月面接触后，该液体之一薄层遗留在该表面上。该液体供应部系与该分配喷嘴呈流体连通，且用以平衡传送至该弯月面之该液体的量与自该弯月面移除之该液体的量，自该弯月面移除之该液体的量包含遗留在该基板之该表面上之该液体的至少该薄层。 |
