发明名称 |
Process for contamination free comminuting of semi-conductor material, especially of silicon. |
摘要 |
Körper aus hochreinem Halbleitermaterial lassen sich erfindungsgemäß dadurch kontaminationsfrei zerkleinern, daß sie Stoßwellen ausgesetzt werden. Das Verfahren wird vorzugsweise bei Raumtemperatur durchgeführt, so daß eine durch hohe Temperaturen induzierte und/oder beschleunigte Diffusion oberflächlich adsorbierter Fremdmetalle ins Innere des Halbleitermaterials weitgehend vermieden wird. |
申请公布号 |
EP0573855(A1) |
申请公布日期 |
1993.12.15 |
申请号 |
EP19930108590 |
申请日期 |
1993.05.27 |
申请人 |
WACKER-CHEMITRONIC GESELLSCHAFT FUER ELEKTRONIK-GRUNDSTOFFE MBH |
发明人 |
WOLF, ANDREAS;KOEPPL, FRANZ, DR. |
分类号 |
H01L21/301;B02C19/18;B22F9/04;B28D5/00;C01B33/02;C30B15/00;(IPC1-7):C30B15/00 |
主分类号 |
H01L21/301 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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