发明名称 Process for contamination free comminuting of semi-conductor material, especially of silicon.
摘要 Körper aus hochreinem Halbleitermaterial lassen sich erfindungsgemäß dadurch kontaminationsfrei zerkleinern, daß sie Stoßwellen ausgesetzt werden. Das Verfahren wird vorzugsweise bei Raumtemperatur durchgeführt, so daß eine durch hohe Temperaturen induzierte und/oder beschleunigte Diffusion oberflächlich adsorbierter Fremdmetalle ins Innere des Halbleitermaterials weitgehend vermieden wird.
申请公布号 EP0573855(A1) 申请公布日期 1993.12.15
申请号 EP19930108590 申请日期 1993.05.27
申请人 WACKER-CHEMITRONIC GESELLSCHAFT FUER ELEKTRONIK-GRUNDSTOFFE MBH 发明人 WOLF, ANDREAS;KOEPPL, FRANZ, DR.
分类号 H01L21/301;B02C19/18;B22F9/04;B28D5/00;C01B33/02;C30B15/00;(IPC1-7):C30B15/00 主分类号 H01L21/301
代理机构 代理人
主权项
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