首页 产品 黄页 商标 征信
会员服务 注册 登录 
全部
 |
企业名
 |
法人/股东/高管
 |
品牌/产品
 |
地址
 |
经营范围
发明名称 PROCESS FOR LOW TEMPERATURE CVD USING BI-AMIDES
摘要
申请公布号 EP0966553(A1) 申请公布日期 1999.12.29
申请号 EP19980963040 申请日期 1998.12.10
申请人 SIEMENS AKTIENGESELLSCHAFT;ADVANCED TECHNOLOGY MATERIALS, INC. 发明人 HINTERMAIER, FRANK;VAN BUSKIRK, PETER;ROEDER, JEFFREY, R.;HENDRIX, BRYAN;BAUM, THOMAS, H.;DESROCHERS, DEBRA, A.
分类号 C23C16/40;H01L21/314;H01L21/316;H01L21/8242;H01L27/10;H01L27/108;(IPC1-7):C23C16/40;H01L29/00;C23C18/12;C30B25/02 主分类号 C23C16/40
代理机构 代理人
主权项
地址
您可能感兴趣的专利
©  2024 传众  czvv.com