发明名称 MASK FOR EXTREME ULTRA VIOLET LITHOGRAPHY AND METHOD FOR FABRICATING THE SMAE
摘要
申请公布号 KR100570062(B1) 申请公布日期 2006.04.10
申请号 KR20040078013 申请日期 2004.09.30
申请人 发明人
分类号 H01L21/027;H01L21/033 主分类号 H01L21/027
代理机构 代理人
主权项
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