形成遮罩图案之方法

摘要

本发明系关于形成遮罩图案之方法。根据本发明，负光阻层系形成在基板上。负光阻层的一些区域被曝光。将曝光的负光阻层显影。在包含负型作用光阻层之基板上，形成正光阻层。烘烤基板，使氢气扩散进入在负型作用光阻层边界部分之正光阻层。将被氢气扩散进入之正光阻层显影。