| 发明名称 |
Ion implantation apparatus and ion source and ion source subassembly for use in ion implantation apparatus |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
EP1065696(A3) |
申请公布日期 |
2001.05.23 |
| 申请号 |
EP20000305203 |
申请日期 |
2000.06.20 |
| 申请人 |
LUCENT TECHNOLOGIES INC. |
发明人 |
JOHNSON, OTIS, JR.;OBENG, YAW SAMUEL |
| 分类号 |
G21K5/04;C23C14/48;H01J27/08;H01J37/08;H01J37/317;(IPC1-7):H01J37/08;H01J27/02 |
主分类号 |
G21K5/04 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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