发明名称 METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE FOR PREVENTING SHORT CHANNEL EFFECT
摘要
申请公布号 KR100620169(B1) 申请公布日期 2006.09.01
申请号 KR20030060928 申请日期 2003.09.01
申请人 发明人
分类号 H01L21/336 主分类号 H01L21/336
代理机构 代理人
主权项
地址