| 发明名称 | 光刻装置和器件的制造方法 | ||
| 摘要 | 本发明涉及一种光刻投射装置，包括：辐射系统，用于提供辐射投射光束；支撑结构，用于支撑构图部件，所述构图部件用于根据所需图案对投射光束进行构图；基底台，用于保持基底；投射系统，用于将带图案的光束投射到基底的靶部上；和激励器，用于当电流流经激励器的线圈时在所述装置内的两个部件之间产生力；其特征在于：所述线圈是围绕着线圈轴绕制而成的线盘，一电学导电片材带嵌入所述线盘中从而其能基本平行于所述线圈的线圈轴。 | ||
| 申请公布号 | CN100351703C | 申请公布日期 | 2007.11.28 |
| 申请号 | CN03143857.1 | 申请日期 | 2003.06.10 |
| 申请人 | ASML荷兰有限公司 | 发明人 | P·C·M·弗里森;J·C·坎普特;R·塔波尔 |
| 分类号 | G03F7/20(2006.01);G03F9/00(2006.01);H01L21/027(2006.01);H01L21/68(2006.01) | 主分类号 | G03F7/20(2006.01) |
| 代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人 | 章社杲 |
| 主权项 | 权利要求书1.一种光刻投射装置，包括：-辐射系统，用于提供辐射投射光束；-支撑结构，用于支撑构图部件，所述构图部件用于根据所需图案对投射光束进行构图；-基底台，用于保持基底；-投射系统，用于将带图案的光束投射到基底的靶部上；和-激励器，用于当电流流经激励器的线圈时在所述装置内的两个部件之间产生力；其特征在于：所述线圈是围绕着线圈轴绕制而成的线盘，一电学导电片材带嵌入所述线盘中从而其能基本平行于所述线圈的线圈轴。 | ||
| 地址 | 荷兰维尔德霍芬 | ||