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经营范围
发明名称
METHODS AND APPARATUS FOR CLEANING SEMICONDUCTOR SUBSTRATES AFTER POLISHING OF COPPER FILM
摘要
申请公布号
IL135610(D0)
申请公布日期
2001.05.20
申请号
IL19980135610
申请日期
1998.10.06
申请人
LAM RESEARCH CORPORATION
发明人
分类号
C11D1/00;C11D3/02;C11D7/02;C11D7/08;C11D7/26;C11D11/00;C23G1/10;H01L21/02;H01L21/304;H01L21/306;H01L21/308;H01L21/3205;H01L21/321;(IPC1-7):H01L
主分类号
C11D1/00
代理机构
代理人
主权项
地址
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