发明名称 研磨罐
摘要 本创作系为一种研磨罐,特别用以盛装胡椒、粗盐等食用品并可加以研磨成所需之颗粒大小。该研磨罐至少包括有一外罐容器、一承罐、及一组研磨机构﹔其中,研磨机构更进一步包括一内研磨齿及一外研磨齿,内研磨齿之内面有螺牙供一传动轴旋入螺接到底,而该传动轴头尾端则分别枢接于一内罐及一旋座之间,藉内罐的转动使传动轴产生扭力而迳带动内研磨齿与不动之外研磨齿相互接触研磨,使前述之胡椒等食用品可以被磨制成细小颗粒﹔本创作之特征在于:外研磨齿系套接于一调整盘上,该调整盘底面设有对称之波浪状阶部及若干定位槽,使该调整盘与旋座接触时得以调整高低,进而调整外研磨齿与内研磨齿之间的间隙,使前述之研磨颗粒大小可以预先被设定,且该调整间隙的机构不易受施力不当而破坏或卡死。
申请公布号 TW437371 申请公布日期 2001.05.28
申请号 TW089214359 申请日期 2000.08.18
申请人 尼美拉有限公司 发明人 黄瑞芳
分类号 A47J42/04 主分类号 A47J42/04
代理机构 代理人 李文通 台北巿复兴北路四十八号三楼
主权项 1.一种研磨罐,由一外罐容器、一承罐及一组研磨机构所组合而成,其中,研磨机构依序包括有一内罐、一传动轴、缓冲弹簧、一外研磨齿,一调整盘、一内研磨齿、及一旋座;内研磨齿之内面有螺牙供传动轴旋入螺接到底,而该传动轴之头尾端则分别枢接于内罐及旋座之间,如此藉内罐的转动使传动轴产生扭力而迳带动内研磨齿与不动之外研磨齿相互接触研磨;其主要特征在于:外研磨齿系套接于调整盘内,调整盘之底面环设有波浪形状之连续阶部及定位槽,藉此,可供与下设之旋座接触时使调整盘随阶部之高低而生变化以决定待研磨物被研磨出来的颗粒大小,并藉定位槽而加以定位者。2.如申请专利范围第1项所述之研磨罐,其中,旋座包括一环座,及位于环座四个等角处向上凸出的滑块,及对应于滑块下设于环座之旋柄。3.如申请专利范围第1或2项所述之研磨罐,其中,调整盘为一工字形中空管体,管体之顶部凸出一垣边,在此垣边与内罐之一内抵面间套设有一压缩弹簧;而管体之底缘则凸设有一更大之垣边及一环形之底面,并在此垣边的四个等角位置设凸出之抵柱,藉垣边可靠抵于承罐之内环槽并受环槽底部之凸垣支撑而不会掉落;而抵柱则抵设于承罐之对应槽座,且槽座之高度高于抵柱,使抵柱可以随调整盘高度变化而改变,并得以限制调整盘只能作高低位移而无法转动。4.如申请专利范围第1项所述之研磨罐,其中,外研磨齿为一中空之管体,其外围设有若干棘柱可套接于调整盘内设之定位槽。5.如申请专利范围第4项所述之研磨罐,其中,外研磨齿之内部形成沙漏般之齿形研磨面,所以约在中间处形成一相对之高点。6.如申请专利范围第5项所述之研磨罐,其中,内研磨齿在略为梯形体之外表面亦设齿形研磨面。图式简单说明:第一图为本创作主体之结构分解图。第二图为本创作研磨机构之分解图。第三图为第一图之组合及AA'位置之断面图。第四图为研磨机构调整位置之状态图。
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