发明名称 一种4H-SiC沟槽型绝缘栅双极型晶体管
摘要 本发明公开了一种4H‑SiC沟槽型绝缘栅双极型晶体管,包括依次层叠设置的P型集电极区,N型漂移区,N型的电流增强层,P型基体区,P型体接触区,N型发射区、发射极金属和集电极金属;还包括第一沟槽与第二沟槽,所述第一沟槽与第二沟槽自器件的上表面穿透P型基体区终止在N型漂移区内;所述第一沟槽内填充第一氧化层和第一多晶硅,所述第二沟槽内的第二多晶硅底部被重掺杂的P型区与N型漂移区隔开,侧面被第二氧化层与P型体接触区、P型基体区及N型漂移区隔开;所述的重掺杂屏蔽区通过第二多晶硅与发射极连接。本发明减小了4H‑SiC沟槽IGBT的栅氧底部拐角的电场强度,达到降低器件的正向导通压降以减小器件损耗的目的。
申请公布号 CN105845718A 申请公布日期 2016.08.10
申请号 CN201610335266.0 申请日期 2016.05.19
申请人 杭州电子科技大学 发明人 王颖;刘彦娟;曹菲;于成浩
分类号 H01L29/417(2006.01)I;H01L29/423(2006.01)I;H01L29/739(2006.01)I 主分类号 H01L29/417(2006.01)I
代理机构 杭州君度专利代理事务所(特殊普通合伙) 33240 代理人 杜军
主权项 一种4H‑SiC沟槽型绝缘栅双极型晶体管,包括从下到上依次层叠设置的P型集电极区,N型漂移区,N型的电流增强层,P型基体区,P型体接触区,N型发射区、发射极金属和集电极金属;其特征在于,还包括第一沟槽与第二沟槽,所述第一沟槽与第二沟槽自器件的上表面穿透P型基体区终止在N型漂移区内;所述第一沟槽内填充第一氧化层和第一多晶硅,形成槽栅结构;所述第二沟槽内的第二多晶硅底部被重掺杂的P型区与N型漂移区隔开,侧面被第二氧化层与P型体接触区、P型基体区及N型漂移区隔开;所述的重掺杂屏蔽区通过第二多晶硅与发射极连接。
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